光敏印章的制作原理——北京聚玺刻章

印章材料常见问题

光敏印章的制作原理

光敏印章是20世纪90年代初有日本发明的，是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制作成的印章。

专用的光敏印章材料（光敏平面橡胶）是一种超微泡材料，其表面的为空孔径非常小，平均孔径小于30um。本身具有储油渗油及光闪烁特性。光敏材料在收到强光照射的时候，可以吸收光能并转换成热能。曝光时，光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光能后，温度迅速上升并达到熔点。闪光结束后，表面溶体的温度迅速降低，形成一定厚度和强度的薄膜，这层薄膜同时起到封孔闭空的作用，并隔绝印油的渗透。
利用光敏材料的特征，用激光打印机将章稿打印在具有透光特征的硫酸纸或激光胶片上，将其覆盖在光敏材料上后放在曝光机内曝光，由于章稿图文本身具有黑度不能曝光，因而长高图文覆盖的光敏材料没有受到光照仍然可以储油渗油，而其他部分则由于受到光照发生凝固不能渗油，从而实现了印章的制作。由于激光打印机的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔结构，因此，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章（如国产原子印章、渗透印）或其他技术方式制作的印章的精度高出许多，是前制作精度最高的一种印章。

光敏印章的印面有顶面和底面构成。顶面有细小致密的开放微孔构成，平均孔径小鱼30Um;底面成黑色，平滑平整，其表面一定厚度和强度的薄膜构成。这层薄膜起到封孔闭孔、隔绝印油渗透的作用，与顶面保持0.1~0.3mm的水平深度。
光敏印章是根据设计图案制作而成，印章图案有图文和空白区构成。图文区制成印章顶面，空白区制成印章底面。顶面微孔中的印油在盖印压力作用下从微孔中深处形成印迹，但制作印章过程中出现在空白的细小脏点，可导致该部位为空不能封闭，成凸面开孔，形成瑕疵点印迹。